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在液晶面板和玻璃基板減薄剛興起之時,行業(yè)中主要通過單一氫氟酸兌RO水進行稀釋后與玻璃反應。隨著減薄厚度不斷增加,以及玻璃材質(zhì)的多樣化等薄化要求提升,在行業(yè)實際操作中發(fā)現(xiàn),僅靠原有的單一氫氟酸已經(jīng)不能滿足現(xiàn)在對液晶面板和玻璃基板的化學蝕刻要求。其主要問題反映在以下幾個方面:
1、氫氟酸受溫度變化影響大,導致蝕刻效率不穩(wěn)定性的變化,不易控制蝕刻過程。
2、容易與SiO2反應產(chǎn)生白色的硅酸鹽結(jié)晶等難溶物質(zhì),并且該物質(zhì)容易懸浮在蝕刻液中,以及粘附與蝕刻設備管道中,嚴重影響蝕刻設備的運行和蝕刻液的循環(huán)利用。
3、難溶雜質(zhì)粘附蝕刻產(chǎn)品表面易導致表面和邊緣產(chǎn)生不良凸點等,嚴重影響蝕刻產(chǎn)品的表面品質(zhì)。
4、容易導致蝕刻產(chǎn)品表面凹點和劃傷等缺陷放大。
5、蝕刻過程速率不穩(wěn)定,氫氟酸的利用率不高,導致后期中和廢酸處理成本增加。以及高溫下氫氟酸較容易揮發(fā),增加安全隱患。
由此,為了抑制單一氫氟酸與二氧化硅的不穩(wěn)定化學反應,提高蝕刻效率和改善蝕刻品質(zhì)。業(yè)界通過在氫氟酸添加硫酸、硝酸等物質(zhì),來進一步改善液晶面板/玻璃基板的化學蝕刻過程。

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